時(shi)光如梭口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)性能(neng)在不斷改進(jin)升(sheng)級

    口(kou)腔(qiang)汙(wu)水是壹(yi)種(zhong)低(di)濃度(du)的(de)汙(wu)水，含有(you)藥物、消(xiao)毒(du)劑、以及(ji)壹定量(liang)的病(bing)菌(jun)等(deng)汙(wu)染物。隨著國(guo)家對環(huan)境保(bao)護(hu)的註(zhu)重和(he)人(ren)們(men)對(dui)環(huan)境情況(kuang)的重視，口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)對於(yu)汙水排放(fang)起到(dao)很大(da)的(de)作(zuo)用(yong)。口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)采用物理方法(fa)處(chu)理汙水，不需(xu)要(yao)添加藥物，也(ye)不會有(you)氯(lv)排放(fang)超(chao)標(biao)的(de)現(xian)象(xiang)，不產生後續投資費(fei)用(yong)。
    牙(ya)科口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)采用臭(chou)氧消(xiao)毒(du)的(de)方法(fa)，其(qi)殺菌(jun)機(ji)理是破(po)壞(huai)和(he)氧化微(wei)生物的(de)細胞(bao)膜(mo)、細胞(bao)質、酶(mei)系(xi)統(tong)和(he)核(he)酸(suan)，從(cong)而使(shi)細菌(jun)和(he)病(bing)毒(du)迅速(su)滅活(huo)。臭(chou)氧以電(dian)解空氣為(wei)原料(liao),對(dui)醫療(liao)機(ji)構汙(wu)水中含(han)有(you)的病(bing)源(yuan)性微(wei)生物、細菌(jun)、病(bing)毒(du)等(deng)殺(sha)滅(mie)率(lv)*。整套設備(bei)全自(zi)動(dong)運行，無需(xu)人(ren)員管理維護(hu)。與現(xian)有(you)的技術(shu)相(xiang)比(bi)，那些(xie)口(kou)腔(qiang)牙(ya)科門診(zhen)所用的(de)專(zhuan)業(ye)口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)的優(you)點(dian)在於：
    ，口(kou)腔(qiang)牙(ya)科門診(zhen)所用的(de)口(kou)腔(qiang)汙(wu)水處理設備(bei)設於(yu)地(di)面(mian)以上(shang)，具有(you)占地(di)面(mian)積小(xiao)，操作(zuo)方便(bian)，便於(yu)維(wei)修(xiu)的(de)好(hao)處，便(bian)於(yu)移動(dong)，方便(bian)運輸(shu)、占(zhan)地(di)面(mian)積較小(xiao)，適(shi)用(yong)於(yu)小型(xing)牙(ya)科門診(zhen)，箱(xiang)體第二箱(xiang)體集(ji)水箱(xiang)的材質均(jun)為(wei)PVC材料，可降(jiang)低成本，減(jian)輕(qing)重量(liang)，適用(yong)於小水量(liang)的汙(wu)水處理。
    第二，對(dui)於(yu)第二箱(xiang)體底(di)部(bu)殘留(liu)的汙水處理液(ye)，可以通(tong)過頂(ding)起機(ji)構將第二箱(xiang)體頂起，使(shi)得回流(liu)出口(kou)的縱向(xiang)高度高(gao)於回流(liu)入口(kou)的縱向(xiang)高度，從(cong)而使(shi)得第二箱(xiang)體底(di)部(bu)殘留(liu)的汙水處理液(ye)通過回流(liu)管自動(dong)流入到(dao)集(ji)水箱(xiang)中進(jin)行通過消(xiao)毒(du)和(he)過濾處理。
    第三(san)，由(you)於(yu)采用臭(chou)氧發(fa)生器(qi)產生的臭(chou)氧消(xiao)毒(du)，可(ke)避(bi)免(mian)處理後的(de)汙水中余(yu)氯(lv)含量(liang)超標(biao)，同時(shi)，臭(chou)氧對(dui)於汙水中的(de)細菌(jun)、病(bing)毒(du)具有(you)*的氧化破(po)壞(huai)性，因(yin)為(wei)臭(chou)氧不會汙染環(huan)境，有(you)效地(di)避(bi)免了使(shi)用消(xiao)毒(du)氣(qi)體對環(huan)境造成(cheng)的(de)二次(ci)汙(wu)染。