本(ben)汙(wu)水(shui)處理(li)裝置主要(yao)由汙(wu)水(shui)自(zi)動提升系(xi)統(tong)、臭氧(yang)氧化消(xiao)毒系(xi)統(tong)和(he)集(ji)成(cheng)式中央控(kong)制系(xi)統(tong)組成(cheng)。
設備內(nei)置汙(wu)水(shui)自(zi)動提升系(xi)統(tong),設備運(yun)行時,診療汙(wu)水(shui)產(chan)生(sheng)後(hou)即(ji)進入(ru)自(zi)吸(xi)式提升器(qi),由其將(jiang)汙(wu)水(shui)由低處排(pai)入消(xiao)毒反應器(qi)(黃(huang)色PE材質(zhi))內。臭氧(yang)氧(yang)化系(xi)統(tong)核心(xin)部件為(wei)我(wo)公(gong)司配套臭氧(yang)制備機,該(gai)臭氧(yang)制備機以(yi)空(kong)氣(qi)為(wei)原(yuan)料(liao),具有(you)效率(lv)高(gao),無(wu)需(xu)高純(chun)氧(yang)的(de)特(te)點(dian)。口(kou)氣(qi)中的(de)氧(yang)氣(qi)在(zai)高(gao)壓電(dian)場作用(yong)下(xia)發生原子重組(zu)後(hou)生(sheng)成(cheng)臭氧(yang),其具(ju)有(you)強烈(lie)的(de)氧(yang)化能(neng)力,能(neng)氧化汙(wu)水(shui)中的(de)各類(lei)病(bing)原微(wei)生物(wu)和(he)少量(liang)有(you)機汙(wu)染物(wu)。其殺(sha)菌機理(li)為:利用(yong)臭(chou)氧較高的(de)氧(yang)化還(hai)原電位破(po)壞和(he)氧(yang)化微(wei)生物(wu)的(de)細(xi)胞(bao)膜、細胞(bao)質、酶(mei)系(xi)統(tong),從而(er)使(shi)細(xi)菌和(he)病(bing)毒迅(xun)速滅(mie)活(huo)。汙(wu)水(shui)經處理(li)後(hou)達(da)到(dao)《醫療(liao)機構(gou)水(shui)汙(wu)染物(wu)排(pai)放(fang)標準》(GB18466-2005)預處理(li)標準(zhun)後(hou)達(da)標(biao)排(pai)放(fang)。
本(ben)產(chan)品(pin)配(pei)設(she)的(de)集(ji)成(cheng)式中央控(kong)制系(xi)統(tong),具有(you)良好的(de)人(ren)機操(cao)作界面(mian),可實現自(zi)動、手(shou)動運(yun)行。在(zai)自(zi)動運(yun)行狀(zhuang)態(tai)下,消(xiao)毒系(xi)統(tong)和(he)汙(wu)水(shui)提升系(xi)統(tong)可實現無(wu)縫(feng)銜(xian)接(jie),同步(bu)運(yun)行,實(shi)現(xian)進水(shui)和(he)氧(yang)化反(fan)應的(de)連(lian)續(xu)運(yun)行。日常(chang)條件下(xia),可通(tong)過(guo)設備配(pei)套遙控器(qi)上(shang)鍵(jian)方(fang)便的(de)實(shi)現(xian)設(she)備的(de)運(yun)行和(he)停(ting)止操(cao)作,而無(wu)需(xu)前往設備放(fang)置處,,便(bian)捷(jie)省(sheng)力。在(zai)特(te)殊(shu)情況(kuang)下,可選用(yong)手(shou)動控制(zhi)模式,實(shi)現進(jin)水(shui)和(he)消(xiao)毒的(de)分步(bu)操(cao)作。