口腔汙水處(chu)理(li)設(she)備的設(she)計,自(zi)動(dong)化(hua)程(cheng)度(du)高

　　口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備對汙水處(chu)理(li)效果理(li)想(xiang)，設備(bei)使用(yong)簡單(dan)方(fang)便，無(wu)需(xu)專(zhuan)人(ren)管理(li)，設(she)備無(wu)需(xu)加藥(yao)，更次汙染(ran)。口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備結構精美(mei)，設(she)計緊湊，自動(dong)運行(xing)適(shi)合牙(ya)科(ke)診所等裝修精(jing)美(mei)空間(jian)緊湊的醫(yi)療(liao)單(dan)位，口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備可*《醫(yi)療(liao)機(ji)構水汙染(ran)物排放(fang)標(biao)準》中(zhong)的(de)處(chu)理(li)要求(qiu)。
 

　　口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備研發(fa)生(sheng)產的(de)壹(yi)種新(xin)型(xing)醫(yi)療(liao)汙水處(chu)理(li)設(she)備，其針(zhen)對牙(ya)科(ke)門診、口(kou)腔醫(yi)院、眼(yan)科(ke)診所、衛(wei)生(sheng)室(shi)手(shou)術(shu)室(shi)等汙水的消(xiao)毒處(chu)理(li)，設(she)備采用(yong)壹(yi)體式設計，內(nei)部結構精密。
 

　　口腔汙水處(chu)理(li)設(she)備的設(she)計,自(zi)動(dong)化(hua)程(cheng)度(du)高 ；
 

　　1、口腔汙水處(chu)理(li)設(she)備設備(bei)運行(xing)可實現(xian)手(shou)動(dong)、自動(dong)轉(zhuan)換(huan),調(tiao)試(shi)階(jie)段以及(ji)故(gu)障(zhang)維(wei)護階(jie)段各(ge)工(gong)藝運行(xing)可通過(guo)手(shou)動(dong)控(kong)制(zhi)實現(xian),正(zheng)常(chang)運行(xing)階段通過(guo)自(zi)動(dong)控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)實現(xian)。
 

　　2、口(kou)腔或診所(suo)現場(chang)遙(yao)控(kong)器(qi)遠(yuan)程(cheng)開啟口腔汙水處(chu)理(li)器(qi)後(hou)汙水自動(dong)提升系(xi)統(tong)可(ke)自動(dong)提升汙水進入反(fan)應器(qi)。本(ben)產(chan)品設有(you)水泵保護系(xi)統(tong),可(ke)有效避免水泵無水空轉(zhuan),防(fang)止水泵汽蝕損(sun)毀。
 

　　3、口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備處(chu)理(li)自(zi)動(dong)運行(xing)狀(zhuang)態(tai)下,設(she)備(bei)由汙水感應器(qi)控(kong)制(zhi)設(she)備(bei)的(de)工(gong)作，感應器(qi)感應到(dao)汙水之(zhi)後(hou)臭(chou)氧高能消毒系(xi)統(tong)與(yu)汙水提升(sheng)系(xi)統(tong)聯(lian)動(dong),無縫(feng)銜(xian)接,確保出(chu)水穩定(ding)達標(biao)。
 

　　口腔汙水處(chu)理(li)設(she)備優(you)勢；
 

　　口(kou)腔汙水處(chu)理(li)設(she)備可實現(xian)全自(zi)動(dong)運行(xing)，由來水感應器(qi)驅動(dong)，消毒與汙水提升(sheng)同時工(gong)作，無需(xu)專(zhuan)人(ren)控(kong)制(zhi)。
 

　　壹(yi)次性(xing)投(tou)入，後(hou)期(qi)無(wu)需(xu)投(tou)加藥(yao)劑或者(zhe)消(xiao)毒(du)粉，次汙染(ran)，設(she)備(bei)全密封運行(xing)，無異味(wei)。
 

　　占(zhan)地(di)小(xiao)、設(she)備安裝簡單(dan)方(fang)便，不(bu)需(xu)要額外(wai)建(jian)設(she)消(xiao)毒池。
 

　　臭氧消毒可(ke)殺滅汙水內99%細(xi)菌病毒，消毒(du)效果優(you)於(yu)加藥(yao)設備(bei)，且(qie)次余(yu)氯(lv)汙染(ran)。