
PRODUCT CLASSIFICATION
實驗室(shi)汙水處(chu)理(li)設(she)備(bei)
生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)
食(shi)品廠(chang)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)
技術文(wen)章(zhang)/ article
更新(xin)時間:2018-12-07
瀏覽次數:1220服(fu)務區生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)
公(gong)司(si)主打產(chan)品:新(xin)型(xing)壹體(ti)化汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei),其(qi)材質(zhi)可(ke)選(xuan)碳鋼和(he)玻璃(li)鋼(gang)兩種(zhong)。玻璃(li)鋼(gang)材質(zhi)的(de)壹體(ti)化汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)是(shi)我(wo)公(gong)司(si)近年研(yan)發(fa)產(chan)品,也是(shi)我(wo)公(gong)司(si)的(de)品(pin)牌(pai)產(chan)品、*產(chan)品。
新(xin)型(xing)壹體(ti)化汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)是(shi)我(wo)公(gong)司(si)設(she)計(ji)開(kai)發的(de)壹種(zhong)將(jiang)壓力(li)溶氧、射流(liu)曝(pu)氣、內(nei)循環(huan)流(liu)化床(chuang)、生(sheng)物(wu)膜(mo)過濾等多項汙水處(chu)理(li)技術融(rong)為(wei)壹體(ti)的(de)處(chu)理(li)設(she)備(bei);具(ju)有節(jie)省(sheng)投資、節(jie)約用(yong)地、運(yun)行(xing)成本(ben)低的(de)優(you)勢(shi),更可(ke)實現全(quan)自(zi)動無(wu)人(ren)值(zhi)守。利(li)用(yong)該(gai)設備(bei)處(chu)理(li)城鎮汙(wu)水,其(qi)出水水質(zhi)可(ke)以達(da)到(dao)GB18918-2002《城鎮汙(wu)水處(chu)理(li)廠(chang)汙染物(wu)排(pai)放標(biao)準》壹級(ji)A排(pai)放(fang)標(biao)準。
設(she)備(bei)工(gong)藝特(te)點(dian)
1、結構緊湊(cou),占地面積(ji)小,可(ke)選(xuan)擇(ze)地上(shang)或埋入地(di)下(xia),設備(bei)上(shang)部可(ke)種花(hua)草。
2、對周圍(wei)環(huan)境無影(ying)響(xiang),汙泥(ni)產(chan)出量(liang)少(shao),噪音小。
3、工(gong)藝新(xin)、效(xiao)果(guo)好、使(shi)用(yong)壽(shou)命長;采用(yong)重力流,節(jie)省(sheng)能源。
4、操作(zuo)簡便,維(wei)修(xiu)方便;全(quan)自(zi)動控(kong)制(zhi)、無(wu)需(xu)專(zhuan)業人士(shi)管理(li)。
5、設(she)備(bei)可(ke)按標(biao)準制(zhi)造(zao)、也可(ke)根據用(yong)戶(hu)的(de)需(xu)要(yao)特(te)殊設(she)計布置(zhi)。
設(she)計要點(dian)
A:厭(yan)氧水解池(chi)采用(yong)上升流式(shi)厭(yan)氧汙泥(ni)床(chuang)反應器的(de)形(xing)式(shi),設(she)計(ji)水力停(ting)留(liu)時間為(wei)2~4小時。厭氧池(chi)下(xia)部為(wei)汙(wu)泥(ni)床(chuang)區,汙泥(ni)床(chuang)厚度(du)通(tong)常控(kong)制(zhi)在(zai)1~1.2M之(zhi)間,進水系統可(ke)采用(yong)脈沖(chong)進水中阻(zu)力(li)布水系統,底部(bu)設布水溝(gou),保留汙泥(ni)不沈積(ji)底部(bu),呈懸(xuan)浮狀態(tai)。汙泥(ni)床(chuang)平(ping)均濃度(du)為(wei)30~35g/l,則(ze)汙泥(ni)負(fu)荷為(wei)0.35~0.30kgCODcr/kg(ss).d。
B:生(sheng)物(wu)接觸氧化工(gong)藝是(shi)介(jie)於(yu)活性汙(wu)泥(ni)法(fa)與生(sheng)物(wu)膜(mo)法之(zhi)間的(de)壹種(zhong)汙(wu)水處(chu)理(li)工(gong)藝。池(chi)內(nei)設有(you)填料(liao),微生(sheng)物(wu)壹部(bu)分(fen)以生(sheng)物(wu)膜(mo)的(de)形(xing)式(shi)固著(zhe)於(yu)填料(liao)表面,壹部(bu)分(fen)則(ze)以絮狀懸(xuan)浮生(sheng)長(chang)於(yu)水中,因(yin)此它(ta)兼(jian)有活(huo)性汙(wu)泥(ni)法(fa)與生(sheng)物(wu)濾池(chi)的(de)特(te)點(dian)。曝(pu)氣系統可(ke)采用(yong)鼓(gu)風或(huo)射(she)流(liu)曝(pu)氧增氧系統(設計(ji)時必須考慮(lv)投資及運(yun)行(xing)成本(ben))。為(wei)培養(yang)微生(sheng)物(wu)的(de)不同的(de)優(you)勢(shi)菌(jun)種,將(jiang)接觸氧化池(chi)分(fen)為(wei)兩格是(shi)行(xing)之(zhi)有(you)效的(de)。*格有效水力停(ting)留(liu)時間為(wei)2.5小時,有機(ji)負(fu)荷(he)為(wei)1.15kgBOD5/m3.d。第(di)二格有效水力停(ting)留(liu)時間為(wei)1.5小時,有機(ji)負(fu)荷(he)0.768kgBOD5/m3.d。A/O法(fa)的(de)主要特(te)點(dian)是(shi):適(shi)應(ying)能(neng)力(li)強(qiang);耐沖(chong)擊負(fu)荷(he);高容(rong)積(ji)負(fu)荷(he);不存(cun)在(zai)汙(wu)泥(ni)膨(peng)脹;排泥(ni)量(liang)非(fei)常少(shao);具有(you)較(jiao)好的(de)脫(tuo)氮效果(guo)。由A/O法衍生(sheng)的(de)A2/O、A3/O汙(wu)水處(chu)理(li)工(gong)藝,原(yuan)理(li)上(shang)是(shi)相(xiang)似(si)的(de)。
SBR法(fa)即間歇式(shi)活(huo)性汙(wu)泥(ni)法(fa),由於(yu)它具(ju)有壹系列(lie)優於(yu)普(pu)通活(huo)性汙(wu)泥(ni)法(fa)的(de)特(te)征,目前已(yi)普(pu)遍應用(yong)於(yu)汙水處(chu)理(li)工(gong)程中(zhong)。SBR法中曝(pu)氣池(chi)兼(jian)具沈澱(dian)的(de)作(zuo)用(yong),厭氧、好氧也在(zai)同(tong)壹池(chi)進(jin)行(xing)。其(qi)運(yun)行(xing)操作(zuo)由流入、反應(ying)、沈澱(dian)、排放(fang)、待(dai)機(ji)五(wu)個(ge)工(gong)序(xu)組成。通過調(tiao)節(jie)每(mei)個(ge)工(gong)序(xu)的(de)時間,可(ke)達(da)到(dao)除(chu)磷(lin)脫氮(dan)的(de)效(xiao)果(guo)。前處(chu)理(li)——SBR反(fan)應器 ——過濾——出水 | 汙泥(ni)處(chu)置設(she)計要(yao)點(dian):理(li)論(lun)上(shang)SBR反應器(qi)的(de)容(rong)積(ji)負(fu)荷(he)有(you)壹個(ge)較(jiao)在(zai)的(de)範(fan)圍(wei),為(wei)0.1~1.3 kgBOD5/m3.d,但(dan)為(wei)安(an)全計(ji),壹般(ban)取(qu)低值(zhi),如0.1 kgBOD5/m3.d左(zuo)右。zui高水位和(he)zui低(di)水位,zui高水位即反應(ying)時的(de)水位,zui低(di)水位是(shi)指(zhi)排放(fang)工(gong)序(xu)結束(shu)時的(de)水位,zui低(di)水位必(bi)須保證在(zai)排(pai)水在(zai)此水位時,沈澱(dian)汙泥(ni)不隨上清(qing)液(ye)而(er)流(liu)失(shi)。SBR工(gong)藝的(de)主要特(te)點(dian)有(you):出水水質(zhi)較(jiao)好;占(zhan)地少(shao);不產(chan)生(sheng)汙(wu)泥(ni)膨(peng)脹;除磷(lin)脫氮(dan)效果(guo)好。
汙(wu)水沈澱(dian)
壹、生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)壹般(ban)都(dou)是(shi)自(zi)由沈澱(dian)的(de),懸(xuan)浮物(wu)的(de)濃(nong)度(du)低(di),沈澱(dian)過程(cheng)不改(gai)變(bian)顆粒(li)的(de)形(xing)狀。
二、生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)絮凝(ning)沈澱(dian),沈澱(dian)過程(cheng)中能發生(sheng)凝(ning)聚(ju)或(huo)絮凝(ning)的(de)壹種(zhong)作(zuo)用(yong),濃度(du)低(di)的(de)虛(xu)浮顆粒(li)的(de)壹種(zhong)沈度(du),由於(yu)絮凝(ning)左(zuo)右顆粒(li)質(zhi)量的(de)增加,沈速(su)加(jia)快(kuai),沈速(su)隨(sui)深度(du)而(er)增加。
三、生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)界面沈澱(dian),汙水中懸(xuan)浮固體(ti)的(de)濃(nong)度(du)增加到(dao)壹定(ding)數值(zhi)後(hou),由於(yu)顆粒(li)之(zhi)間的(de)相(xiang)互(hu)幹擾(rao)的(de)影(ying)響,所(suo)有顆粒(li)以團(tuan)狀整體沈澱(dian),泥(ni)水之(zhi)間形(xing)成(cheng)清(qing)晰可(ke)見的(de)泥(ni)水界面,此時,所(suo)有顆粒(li)的(de)沈速(su)相(xiang)同(tong),且(qie)以同(tong)壹速(su)度(du)沈澱(dian),活性汙(wu)泥(ni)二(er)沈澱(dian)的(de)下(xia)部屬(shu)於(yu)此類型(xing)。
四、生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)壓(ya)密沈澱(dian),發作(zuo)在(zai)高濃度(du)踏實顆粒(li)的(de)沈降(jiang)進(jin)程中(zhong),因(yin)為(wei)SS很(hen)高,顆粒(li)彼(bi)此之(zhi)間以集(ji)合(he)成(cheng)團塊構(gou)造(zao),相(xiang)互(hu)支(zhi)持(chi),基(ji)層顆粒(li)間的(de)水分在(zai)上(shang)層(ceng)顆粒(li)的(de)重(zhong)力、水深及自(zi)身重(zhong)力效果(guo)下(xia)被壓出,使(shi)汙(wu)泥(ni)得道濃(nong)縮(suo)。二(er)沈池(chi)汙(wu)泥(ni)鬥(dou)中的(de)濃(nong)縮進程及(ji)濃(nong)縮(suo)池(chi)中(zhong)汙(wu)泥(ni)的(de)濃(nong)縮進程存(cun)在(zai)緊縮(suo)沈積(ji)。
提(ti)高水的(de)循(xun)環(huan)利(li)用(yong)率
為(wei)了減少(shao)汙水水量,可(ke)以考(kao)慮(lv)水的(de)循(xun)環(huan)利(li)用(yong)、或多次重復利用(yong),提(ti)高水的(de)循(xun)環(huan)利(li)用(yong)率,盡(jin)量減(jian)少(shao)外排(pai)水量。
通(tong)過以上(shang)對(dui)如何更好的(de)使(shi)用(yong)生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)的(de)介(jie)紹,就到(dao)這(zhe)裏(li)了,生(sheng)活(huo)汙(wu)水處(chu)理(li)設(she)備(bei)使(shi)我(wo)們(men)的(de)生(sheng)活(huo)環(huan)境更加美(mei)麗。
企(qi)業名稱(cheng):山東(dong)淩(ling)科環(huan)保科技有限(xian)公(gong)司(si)
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